2019年11月26日，秋末了,天渐渐地转凉了，叶还在随风起舞，不肯落入尘埃，萧瑟的风宣告着冬的入侵, 时间过境，冬日正向美丽的合肥工业大学翡翠湖校区走来。电子科学与应用物理学院有幸请到安徽大学物理与材料科学学院教授——何刚，为我院师生做题为后摩尔时代新型超薄高k栅的设计、界面调控及器件集成的学术报告。

会议伊始，主持人为在座师生介绍了何刚教授的学习与工作经历，大家报以热烈掌声欢迎何教授的到来。何刚教授任安徽大学物理与材料科学学院教授。主要从事新型高k栅介质的设计、制备及与器件集成相关的科研工作。主要的研究内容：新型高k栅的掺杂设计及结构优化、高k栅的界面钝化、以及高k栅在场效应器件与薄膜晶体管方面的应用等。何刚教授多次应邀在国际学术会议上作邀请报告，并多次组织学术会议。迄今为止，已在Pro. Mater. Sci, Sur. Sci. Rep, Adv. Electro Mater, Appl. Phys. Lett, Phy. Rev. B, Phys. Rev. Appl.等国际学术期刊上发表SCI论文200余篇。发表论文总被Nature Mater., J. Am. Chem. Soc., Adv. Funct. Mater.等国际学术期刊论文引用3100余次，H因子27；主持国家自然科学基金、教育部重点项目、安徽省自然基金等项目。安徽省自然科学二等奖获得者（排名第一）。然后，何刚教授开始详细的向各位师生做报告。首先给大家介绍了高k栅介质的研究背景及他们在硅基高k栅材料选择及界面修饰方面的研究工作。另一方面，针对高k栅介质本身的缺陷及硅基的服役周期物理问题，介绍他们在高迁移沟道材料与高k栅异质集成方面的研究工作。最后，结合新型高k栅的优势，介绍他们目前在薄膜晶体管方面取得的部分研究进展。

报告结束后，何刚教授对老师和同学们的问题，一一的予以了详细解答。并对当前领域的热点方向进行了介绍。该报告反映了他们在薄膜晶体管方面研究的深度与宽度，给我院师生带来诸多启发。在这里再次感谢何刚教授的慷慨分享。

报告人简介：

何刚，男，安徽大学物理与材料科学学院教授，博士生导师，安徽省“皖江学者”特聘教授，安徽省学术与技术带头人，合肥市第八批专业技术拔尖人才。

2006年在中科院固体物理研究所获得博士学位。博士毕业后，2007-2009在日本东京大学应用化学系开展JSPS海外特别研究员工作；2009-2011在日本国家材料所开展高级研究员工作。2011年到安徽大学物理与材料科学学院工作。主要从事新型高k栅介质的设计、制备及与器件集成相关的科研工作。主要的研究内容：新型高k栅的掺杂设计及结构优化、高k栅的界面钝化、以及高k栅在场效应器件与薄膜晶体管方面的应用等。多次应邀在国际学术会议上作邀请报告，并多次组织学术会议。迄今为止，已在Pro. Mater. Sci, Sur. Sci. Rep, Adv. Electro Mater, Appl. Phys. Lett, Phy. Rev. B, Phys. Rev. Appl.等国际学术期刊上发表SCI论文200余篇。发表论文总被Nature Mater., J. Am. Chem. Soc., Adv. Funct. Mater.,等国际学术期刊论文引用3100余次,H因子27；主持国家自然科学基金、教育部重点项目、安徽省自然基金等项目。安徽省自然科学二等奖获得者（排名第一）。

报告简介：集成电路的快速发展已导致其核心部件场效应晶体管的栅介质层接近原子尺度，栅极漏电和静态功耗急剧增加，硅基器件的发展已接近其物理极限。因此器件持续微型化受到器件结构、材料及工艺等诸多因素的严重制约，必须针对功耗、性能提高、工艺等问题，在材料选择、器件结构及加工技术等方面来寻求突破。本报告的第一部分，将给大家介绍高k栅介质的研究背景及我们在硅基高k栅材料选择及界面修饰方面的研究工作。另一方面，针对高k栅介质本身的缺陷及硅基的服役周期物理问题，介绍我们在高迁移沟道材料与高k栅异质集成方面的研究工作。最后，结合新型高k栅的优势，介绍我们目前在薄膜晶体管方面取得的部分研究进展。